一种二氧化硅合成反应釜自动清洗装置的制作方法

一种二氧化硅合成反应釜自动清洗装置的制作方法

本实用新型涉及反应釜清洗设备技术领域,具体为一种二氧化硅合成反应釜自动清洗装置。

背景技术:

在二氧化硅生产中,由于蒸汽加热、溶液浓缩等原因,反应釜内壁及搅拌浆表面结垢严重,结垢物是由大量水垢、硅胶等各种杂质组成,难于清理,严重影响产品品质和设备出力率,由于结垢严重,必须频繁进行停机清洗,导致产品品质不稳定,并消耗了大量人力物力财力,导致生产成本升高3%以上。目前常用的反应釜清洗方法为人工手持水枪清洗,存在清洗不彻底、效率低下、劳动强度大、浪费水资源等弊端,无法完全清除结垢物,只能再配合火碱煮沸工艺,这种清洗方法对于表面结垢物清洗效果明显,但对附着的硬质结垢物却无法完全清洗干净,而且“煮沸法”需要时间48小时,耗费大量蒸汽和电资源,成本高,耗时长,对合成釜内壁也产生一定程度的腐蚀,有损设备寿命。

技术实现要素:

本实用新型结合对反应釜、搅拌桨结构特点以及结垢物性质的分析,展开了对反应釜自动清洗技术的研究,提出了一种反应釜自动清洗装置。

为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案,一种二氧化硅合成反应釜自动清洗装置,包括设于反应釜内部的若干数量的盘管,所述盘管与高压水泵连接,所述盘管靠近反应釜的一侧设有第一喷嘴,所述盘管远离反应釜内壁的一侧设有第二喷嘴,所述第一喷嘴和第二喷嘴均匀的分布在盘管的圆周上。

优选地,所述第一喷嘴为两组,两组所述第一喷嘴对称分布于盘管中心水平面的上下两侧。

优选地,两组所述第一喷嘴与盘管中心水平面的夹角为30-60°。

优选地,每组所述第一喷嘴的数量为60-120个。

优选地,所述第二喷嘴为七组,相邻两组所述第二喷嘴的间隔弧度为15-20°。

优选地,每组所述第二喷嘴的数量为60-120个。

优选地,所述水源与高压泵之间设有加热装置。

有益效果

本实用新型提供的一种二氧化硅合成反应釜自动清洗装置,具备以下有益效果:该反应釜自动清洗装置通过在不同位置设置不同喷射角度的喷嘴,可以有效的对反应釜内壁及搅拌桨进行清洗,该清洗装置清洗效果好、速度快,产品品质得到提高,提高了设备的利用率提高,降低清洗成本。

附图说明

图1为本实用新型一种二氧化硅合成反应釜自动清洗装置的结构示意图;

图2为本实用新型一种二氧化硅合成反应釜自动清洗装置中盘管的结构示意图;

图3为图2中盘管a-a的截面示意图;

图4为图3中b的局部放大图。

图中:1-反应釜;2-盘管;201-上盘管;202-下盘管;3-第一喷嘴;4-第二喷嘴;5-高压水泵;6-加热装置。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-4,一种二氧化硅合成反应釜自动清洗装置,根据反应釜1的大小,设置盘管2的数量及第一喷嘴3和第二喷嘴4的数量,本实施例中,反应釜1的直径为4000mm,高为5000mm,在反应釜1内部设置了两个盘管2,即上盘管201和下盘管202,两个盘管分别通过高压水泵5与水源连接,水源与高压水泵5之间设有用于加热水的加热装置6,上盘管201的直径为50mm,下盘管202的直径为65mm,上盘管201距离反应釜1顶部的距离为1700mm,上下盘管之间的距离1700mm,盘管2靠近反应釜1的一侧设有第一喷嘴3,第一喷嘴3为两组,对称分布于盘管2中心水平面的上下两侧,第一喷嘴3与盘管2中心水平面的夹角a为30°,每组第一喷嘴3的数量为120个,盘管2远离反应釜1内壁的一侧设有第二喷嘴4,第二喷嘴为七组,相邻两组第二喷嘴的间隔弧度为20°,第一喷嘴3和第二喷嘴4均匀的分布在盘管2的圆周上,每组第一喷嘴3和每组第二喷嘴4的数量均为120个,第一喷嘴3和第二喷嘴4的直径为6mm,冲洗水的压力为2.0-3.0mpa,温度为90-95℃。

工作原理:当反应釜需要清理时,将水源加热到合适的温度,启动高压水泵,将热水输送至盘管,通过盘管圆周上均匀分布的第一喷嘴和第二喷嘴喷出,第一喷嘴喷出的水主要用于反应釜内壁的清洗,第二喷嘴喷出的水主要用于搅拌桨的清洗。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例,对于本领域的普通技术人员而言,可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型,本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。

技术特征:

1.一种二氧化硅合成反应釜自动清洗装置,其特征在于,包括设于反应釜内部的若干数量的盘管,所述盘管通过高压水泵与水源连接,所述盘管靠近反应釜的一侧设有第一喷嘴,所述盘管远离反应釜内壁的一侧设有第二喷嘴,所述第一喷嘴和第二喷嘴均匀的分布在盘管的圆周上。

2.根据权利要求1所述的一种二氧化硅合成反应釜自动清洗装置,其特征在于,所述第一喷嘴为两组,两组所述第一喷嘴对称分布于盘管中心水平面的上下两侧。

3.根据权利要求2所述的一种二氧化硅合成反应釜自动清洗装置,其特征在于,两组所述第一喷嘴与盘管中心水平面的夹角为30-60°。

4.根据权利要求2所述的一种二氧化硅合成反应釜自动清洗装置,其特征在于,每组所述第一喷嘴的数量为60-120个。

5.根据权利要求1所述的一种二氧化硅合成反应釜自动清洗装置,其特征在于,所述第二喷嘴为七组,相邻两组所述第二喷嘴的间隔弧度为15-20°。

6.根据权利要求5所述的一种二氧化硅合成反应釜自动清洗装置,其特征在于,每组所述第二喷嘴的数量为60-120个。

7.根据权利要求1所述的一种二氧化硅合成反应釜自动清洗装置,其特征在于,所述水源与高压泵之间设有加热装置。

技术总结

本实用新型公开了一种二氧化硅合成反应釜自动清洗装置,包括设于反应釜内部的若干数量的盘管,所述盘管通过高压水泵与水源连接,所述盘管靠近反应釜的一侧设有第一喷嘴,所述盘管远离反应釜内壁的一侧设有第二喷嘴,所述第一喷嘴和第二喷嘴均匀的分布在盘管的圆周上。该反应釜自动清洗装置通过在不同位置设置不同喷射角度的喷嘴,可以有效的对反应釜内壁及搅拌桨进行清洗,该清洗装置清洗效果好、速度快,产品品质得到提高,提高了设备的利用率提高,降低清洗成本。

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