纺织染整废水处理装置的制作方法

纺织染整废水处理装置的制作方法

本实用新型涉及废水处理技术领域,特别涉及一种纺织染整废水处理装置。

背景技术:

纺织染整废水需要经过沉淀池处理,现有技术中,斜管沉淀池存在进水不均匀的问题,在进水口附近,液体的运动会出现严重的湍流或进水速度快,致使进水口部液体流动速度极大,使沉淀池内的污泥泛起,且局部会出现“短流”现象,使絮体的稳定性受到影响,导致前期已形成的絮体容易重新被碎成细小絮体,为了布水均匀,斜管沉淀池花墙开孔范围较小,往往造成过孔流速比平流沉淀池大,造成前期形成的矾花二次破碎,并且容易冲起配水孔底部沉积的死泥,造成出水浊度升高。

技术实现要素:

本实用新型所要解决的技术问题是:如何提高纺织染整废水斜管沉淀池的沉淀效率和出水水质。

为了解决上述技术问题,本实用新型采用的技术方案为:

一种纺织染整废水处理装置,包括处理装置本体,所述处理装置本体包括沿第一方向依次设置的反应池、缓冲区和沉淀池;

所述反应池的侧壁设有进水口,所述反应池与缓冲区通过溢流墙隔开,所述缓冲区与沉淀池通过挡墙隔开,所述缓冲区的下部与沉淀池的下部连通,所述沉淀池与缓冲区的连通处设置有布水分配器,所述沉淀池内设有斜管片层,所述斜管片层位于布水分配器的上方。

进一步的,所述沉淀池的底部设有积泥沉淀区,所述积泥沉淀区位于布水分配器的下方。

进一步的,所述积泥沉淀区的底部设有排泥管,所述排泥管设有阀门。

进一步的,所述沉淀池的上部设有三角堰板,所述三角堰板处设有出水口。

进一步的,所述斜管片与水平面的夹角为60度。

进一步的,所述布水分配器包括进水管、分配管、控制阀和排水口;所述进水管的始端连接于缓冲区,所述进水管的末端连接有多条分配管,每个分配管的始端分别设有控制阀,每个分配管上等间距分布有多个排水口。

本实用新型的有益效果在于:本实用新型提供的纺织染整废水处理装置结构中,设有斜管片层的沉淀池具有沉淀表面积大,雷诺系数小,水力负荷高的优点,为其他沉淀池的一倍以上,具有沉淀效率高,产水量大,占地面积少的优点,通过在沉淀池的特定位置设置布水分配器,使进水均匀分布,有利于反应的废水均匀沉降,保证配水均匀,在沉淀池前增加反应池和缓冲区,使进水口进入的水没有直接进入沉淀池,经过缓冲区可以达到整流的目的,增加沉淀池的抗冲击力,降低了水平水流速,降低沉淀池内水流上升流速,进一步提高沉淀效率,保证出水水质。

附图说明

图1为本实用新型具体实施方式的一种纺织染整废水处理装置的结构示意图;

图2为本实用新型具体实施方式的一种纺织染整废水处理装置的布水分配器的结构示意图;

标号说明:

1、反应池;2、缓冲区;3、沉淀池;31、斜管片层;32、积泥沉淀区;4、进水口;5、溢流墙;6、挡墙;7,布水分配器;71、进水管;72、分配管;73、控制阀;74、排水口;8、排泥管;9、阀门;10、三角堰板;11、出水口。

具体实施方式

为详细说明本实用新型的技术内容、所实现目的及效果,以下结合实施方式并配合附图予以说明。

请参照图1以及图2,本实用新型涉及一种纺织染整废水处理装置,包括处理装置本体,所述处理装置本体包括沿第一方向依次设置的反应池1、缓冲区2和沉淀池3;

所述反应池1的侧壁设有进水口4,所述反应池1与缓冲区2通过溢流墙5隔开,所述缓冲区2与沉淀池3通过挡墙6隔开,所述缓冲区2的下部与沉淀池3的下部连通,所述沉淀池3与缓冲区2的连通处设置有布水分配器,所述沉淀池3内设有斜管片层31,所述斜管片层31位于布水分配器的上方。

上述纺织染整废水处理装置结构中,斜管片层31是由与水平面呈一定角度的众多斜板或斜管放置在沉淀池3中构成,水从下向上流动,颗粒则沉于斜板或斜管底部,当颗粒累积到一定程度时,便自动滑下,具有斜管片层31的沉淀池3具有沉淀表面积大,雷诺系数小,水力负荷高的优点,为其他沉淀池3的一倍以上,具有沉淀效率高,产水量大,占地面积少的优点,通过在沉淀池3的特定位置设置布水分配器,使进水均匀分布,有利于反应的废水均匀沉降,保证配水均匀,配水区起端水平流速宜控制在0.010~0.018m/s之间,在沉淀池3前增加反应池1和缓冲区2,使进水口4进入的水没有直接进入沉淀池3,经过缓冲区2可以达到整流的目的,增加沉淀池3的抗冲击力,降低了水平水流速,降低沉淀池3内水流上升流速,进一步提高沉淀效率,保证出水水质。

进一步的,上述纺织染整废水处理装置结构中,所述沉淀池3的底部设有积泥沉淀区32,所述积泥沉淀区32位于布水分配器的下方。

进一步的,上述纺织染整废水处理装置结构中,所述积泥沉淀区32的底部设有排泥管7;布水分配器;8,所述排泥管7;布水分配器;8设有阀门9。

进一步的,上述纺织染整废水处理装置结构中,所述沉淀池3的上部设有三角堰板10,所述三角堰板10处设有出水口11。

进一步的,上述纺织染整废水处理装置结构中,所述斜管片与水平面的夹角为60度。

由上述描述可知,具有斜管片层31的沉淀池3的沉淀效率与几何参数板间距、安装角度,板长、板的粗糙度、安装板的数量以及颗粒直接有关,设计斜管片与水平面的夹角为60度,受水流冲击、经实用改造布水分配器进水均匀分布,有利于反应的废水均匀沉降,能够提高沉淀池3的沉淀效率。

进一步的,上述纺织染整废水处理装置结构中,所述布水分配器7包括进水管71、分配管72、控制阀73和排水口74;所述进水管71的始端连接于缓冲区2,所述进水管71的末端连接有多条分配管72,每个分配管72的始端分别设有控制阀73,每个分配管73上等间距分布有多个排水口74。

由上述描述可知,污泥混合液通过进水管分流至各分配管,可通过各控制阀分别调节各分配管的分流量,使污泥混合液通过各均布的排水口均匀流出,减少出水压力,达到沉淀池的均匀出水目的,使污水能够均匀地与沉淀池内的药水混合,节省处理废水的药剂用量,不会因为水力不均而影响污泥均匀沉降,提高处理效率和水质洁净度。

实施例1

一种纺织染整废水处理装置,包括处理装置本体,所述处理装置本体包括沿第一方向依次设置的反应池1、缓冲区2和沉淀池3;所述反应池1的侧壁设有进水口4,所述反应池1与缓冲区2通过溢流墙5隔开,所述缓冲区2与沉淀池3通过挡墙6隔开,所述缓冲区2的下部与沉淀池3的下部连通,所述沉淀池3与缓冲区2的连通处设置有布水分配器,所述沉淀池3内设有斜管片层31,所述斜管片层31位于布水分配器的上方。所述沉淀池3的底部设有积泥沉淀区32,所述积泥沉淀区32位于布水分配器的下方。所述积泥沉淀区32的底部设有排泥管7;布水分配器;8,所述排泥管7;布水分配器;8设有阀门9。所述沉淀池3的上部设有三角堰板10,所述三角堰板10处设有出水口11。所述斜管片与水平面的夹角为60度。所述布水分配器7包括进水管71、分配管72、控制阀73和排水口74;所述进水管71的始端连接于缓冲区2,所述进水管71的末端连接有多条分配管72,每个分配管72的始端分别设有控制阀73,每个分配管73上等间距分布有多个排水口74。

实施例2

实施例1所述的放置染整废水处理装置结构中,斜管沉淀池分为四个区,自下而上分别为沉淀区,布水区,斜管区和清水区。原水进入穿孔旋流絮凝池,通过上下交错的方孔,顺序流出斜管缓慢上升,絮凝杂质在斜管上沉淀下落进入排泥斗,经过沉淀后的水通过进入清水区,清水通过穿孔集水总渠,最终流水原水池。

沉淀目的是为了去除大的絮花絮体。在沉淀池有效容积一定的情况下,增加沉淀面积,可以提高去除率。沉淀池的水流处于层流状态,沉淀效果越好。斜板沉淀池符合这两点,满足了水流处于层流的要求。本设计采用斜管沉淀池,水力半径更小,雷诺数更小,费劳德常数更大,具有沉淀效果好,池体小,占地少,沉淀时间短等优点。沉淀池型式的选择,应根据水质水量,水厂平面和高程布置,及絮凝池型式等因素确定。沉淀池的水力条件采用费劳德数复核来控制。一般控制在10-4~10-5。

本设计采用孔穿旋流絮凝池,絮凝池由若干方格组成,方格数为6格。各格之间的墙壁上沿池壁开孔,孔口位置采用上下左右变换布置,以避免水流短流,提高容积利用率。该种絮凝池各格室的平面采用长方形,为了易于形成旋流,池格平面均填角。孔口采用矩形断面,池内积泥采用底部锥斗重力排泥。絮凝池孔口流速应按由大变小的渐变流速计,起端流速适宜为6~1.0m/s,末端流速宜为0.2~0.3m/s,絮凝时间按10min计。

絮凝池流速一般按由大到小设计,在较大的反应流速下,使水中的胶体颗粒发生充分的碰撞,吸附在较小的颗粒上,使胶体颗粒能接成较大的颗粒,以便于能在沉淀池中去除。为了确保沉淀池的沉淀效果,要有足够的沉淀时间,一般在10~30min,并控制反应流速,使其平均速度梯度在10~75s-1,使104~105,以确保反应过程的充分与完善。

综上所述,本实用新型提供的纺织染整废水处理装置结构中,斜管片层是由与水平面呈一定角度的众多斜板或斜管放置在沉淀池中构成,水从下向上流动,颗粒则沉于斜板或斜管底部,当颗粒累积到一定程度时,便自动滑下,具有斜管片层的沉淀池具有沉淀表面积大,雷诺系数小,水力负荷高的优点,为其他沉淀池的一倍以上,具有沉淀效率高,产水量大,占地面积少的优点,通过在沉淀池的特定位置设置布水分配器,使进水均匀分布,有利于反应的废水均匀沉降,保证配水均匀,配水区起端水平流速宜控制在0.010~0.018m/s之间,在沉淀池前增加反应池和缓冲区,使进水口进入的水没有直接进入沉淀池,经过缓冲区可以达到整流的目的,增加沉淀池的抗冲击力,降低了水平水流速,降低沉淀池内水流上升流速,进一步提高沉淀效率,保证出水水质。

以上所述仅为本实用新型的实施例,并非因此限制本实用新型的专利范围,凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等同变换,或直接或间接运用在相关的技术领域,均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。

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