一种石英晶片加工前清洗设备的制作方法

本实用新型涉及石英晶片加工技术领域，特别是一种石英晶片加工前清洗设备。

背景技术：

石英晶振就是用石英材料做成的石英晶体谐振器，俗称晶振，起产生频率的作用，具有稳定，抗干扰性能良好的，广泛应用于各种电子产品中；

在使用石英材料制作石英晶振时，通过设备加工获得的石英晶体需要深层次加工前，需要进行一定的清洗，将石英晶体表面附着的石英粉颗粒进行冲洗，冲洗后的石英晶体再进行后续加工，故提出一种清洗效率高的可对多个石英晶体进行冲洗所设的石英晶片加工前清洗设备。

技术实现要素：

本实用新型要解决的技术问题是针对现有技术的不足，提供了一种清洗效率高的可对多个石英晶体进行冲洗所设的石英晶片加工前清洗设备。

本实用新型要解决的技术问题是通过以下技术方案来实现的，包括，

底面固定安装有若干支撑腿所设的设备本体；

固定安装在设备本体顶面上的待加工石英晶片输送设备；

固定安装在设备本体侧面上的支撑板，在支撑板的顶面上固定安装有安装板，在安装板的底面上固定安装有用于对待加工石英晶片输送设备上的石英晶片进行清洗所设的喷淋管；

固定安装在待加工石英晶片输送设备后方的设备本体的顶面上的用于输送清洗后的石英晶片所设的第二输送设备。

本实用新型要解决的技术问题还可以通过以下技术方案来实现的，以上所述的一种石英晶片加工前清洗设备，所述的待加工石英晶片输送设备和第二输送设备均采用带式输送机。

本实用新型要解决的技术问题还可以通过以下技术方案来实现的，以上所述的一种石英晶片加工前清洗设备，还包括回收水机构，其包括，

固定安装在设备本体上的对向安装的两个第一导向板，所述的待加工石英晶片输送设备位于两个第一导向板之间的设备本体上，位于待加工石英晶片输送设备上方的第一导向板上具有用于通过喷淋管喷洒出的水所设的导流孔，位于导流孔下方的第一导向板的外壁上固定安装有用于对导流孔流出的水进行导向所设的导流板；

固定安装在位于导流板下方的设备本体侧壁上的回收水储集盒，回收水储集盒内具有用于容纳水的空间且回收水储集盒的顶部呈开放式设置，在回收水储集盒的内壁开设有滑轨，在回收水储集盒内还设置有过滤板，过滤板上具有可对进入至回收水储集盒内水进行过滤所设的滤网，所述的过滤板的侧面固定安装有可沿滑轨移动所设的滑块，过滤板的顶面上还固定安装有便于将过滤板从回收水储集盒中取出所设的吊耳。

本实用新型要解决的技术问题还可以通过以下技术方案来实现的，以上所述的一种石英晶片加工前清洗设备，所述的设备本体的底部内具有水箱，水箱内具有提升泵，提升泵的出水端通过管道与喷淋管连接。

本实用新型要解决的技术问题还可以通过以下技术方案来实现的，以上所述的一种石英晶片加工前清洗设备，所述的待加工石英晶片输送设备的出口端位于第二输送设备中部的正上方设置。

本实用新型要解决的技术问题还可以通过以下技术方案来实现的，以上所述的一种石英晶片加工前清洗设备，位于第二输送设备两侧的设备本体上固定安装有第二导向板，位于第二导向板前端部设备本体顶面上开设有积水槽，位于第二导向板后端部的设备本体顶面上固定安装有导料组件，位于第二输送设备中部上方的设备本体上开设有过水通道，过水通道的进口端与回收水储集盒的底部内壁连通。

本实用新型要解决的技术问题还可以通过以下技术方案来实现的，以上所述的一种石英晶片加工前清洗设备，所述的导料组件包括两根支撑柱，位于支撑柱的顶面上固定安装有导料斜板，导料斜板的进口端位于第二输送设备出口端的正下方，在导料斜板的顶面上开设有用于石英晶片滑动所设的滑道。

与现有技术相比，本实用新型的有益技术效果是：通过喷淋管可对待加工石英晶片输送设备上的石英晶片进行冲洗，一定程度上的使得石英晶片上的石英颗粒或石英粉末可被冲洗下，使得被冲洗后的石英晶片的加工误差更小，通过回收水机构可以将冲洗后的水进行过滤回收，通过过水通道再次对石英晶片进行冲洗，一定程度上的使得石英晶片的冲洗效果更好，其结构设计合理。

附图说明

图1为本实用新型的主视结构示意图；

图2为本实用新型的局部放大结构示意图。

具体实施方式

以下参照附图，进一步描述本发明的具体技术方案，以便于本领域的技术人员进一步地理解本发明，而不构成对其权利的限制。

实施例1，参照图1一种石英晶片加工前清洗设备，包括，

底面固定安装有若干支撑腿所设的设备本体1；

固定安装在设备本体1顶面上的待加工石英晶片输送设备2；

固定安装在设备本体1侧面上的支撑板3，在支撑板3的顶面上固定安装有安装板4，在安装板4的底面上固定安装有用于对待加工石英晶片输送设备2上的石英晶片进行清洗所设的喷淋管5；

固定安装在待加工石英晶片输送设备2后方的设备本体1的顶面上的用于输送清洗后的石英晶片所设的第二输送设备6。设备本体1的横截面呈矩形状设置；支撑板3的横截面呈矩形状设置；安装板4的横截面呈矩形状设置。

实施例2，实施例1所述的一种石英晶片加工前清洗设备，所述的待加工石英晶片输送设备2和第二输送设备6均采用带式输送机。

实施例3，实施例2所述的一种石英晶片加工前清洗设备，还包括回收水机构，其包括，

固定安装在设备本体1上的对向安装的两个第一导向板7，所述的待加工石英晶片输送设备位于两个第一导向板7之间的设备本体1上，位于待加工石英晶片输送设备2上方的第一导向板7上具有用于通过喷淋管5喷洒出的水所设的导流孔8，位于导流孔8下方的第一导向板7的外壁上固定安装有用于对导流孔8流出的水进行导向所设的导流板9；

固定安装在位于导流板9下方的设备本体1侧壁上的回收水储集盒10，回收水储集盒10内具有用于容纳水的空间且回收水储集盒10的顶部呈开放式设置，在回收水储集盒10的内壁开设有滑轨，在回收水储集盒10内还设置有过滤板，过滤板上具有可对进入至回收水储集盒10内水进行过滤所设的滤网11，所述的过滤板的侧面固定安装有可沿滑轨移动所设的滑块，过滤板的顶面上还固定安装有便于将过滤板从回收水储集盒10中取出所设的吊耳12。第一导向板7的横截面呈矩形状设置；导流板9的横截面呈矩形状设置；回收水储集盒10的横截面呈矩形状设置；过滤板的横截面呈矩形状设置；滤网11可采用目数在40-70目的过滤网11，例如50目过滤网11即可，根据使用需求可以自行选择。

实施例4，实施例3所述的一种石英晶片加工前清洗设备，所述的设备本体1的底部内具有水箱13，水箱13内具有提升泵14，提升泵14的出水端通过管道与喷淋管5连接。

实施例5，实施例4所述的一种石英晶片加工前清洗设备，所述的待加工石英晶片输送设备2的出口端位于第二输送设备6中部的正上方设置。

实施例6，实施例5所述的一种石英晶片加工前清洗设备，位于第二输送设备6两侧的设备本体1上固定安装有第二导向板15，位于第二导向板15前端部设备本体1顶面上开设有积水槽16，位于第二导向板15后端部的设备本体1顶面上固定安装有导料组件，位于第二输送设备6中部上方的设备本体1上开设有过水通道17，过水通道17的进口端与回收水储集盒10的底部内壁连通。第二导向板15的横截面呈矩形状设置；积水槽16的横截面呈矩形状设置。

实施例7，实施例6所述的一种石英晶片加工前清洗设备，所述的导料组件包括两根支撑柱，位于支撑柱的顶面上固定安装有导料斜板18，导料斜板18的进口端位于第二输送设备6出口端的正下方，在导料斜板18的顶面上开设有用于石英晶片滑动所设的滑道19。支撑柱的横截面呈矩形状设置；导料斜板18的横截面呈矩形状设置。

该石英晶片加工前清洗设备使用时，通过外部电源启动待加工石英晶片输送设备2、第二输送设备6和提升泵14，将待清洗的石英晶片放置在待加工石英晶片输送设备2上，石英晶片通过待加工石英晶片输送设备2被传输至第二输送设备6上，通过第二输送设备6将石英晶片输送至导料斜板18上的滑道19上，在滑道19下方防止容纳盒或其他用于容储石英晶片的盒体即可；

清洗期间，提升泵14将水箱13中的水泵至喷淋管5中，通过喷淋管5对待加工石英晶片输送设备2上的石英晶片进行初步喷淋，需要注意的是，由于流至回收水储集盒10内的水中含有少量的石英晶片颗粒，而该颗粒正是需要去除的杂质，经过滤网11过滤后的水中的石英晶片的含量会大大降低，即使有少量石英晶片颗粒或粉末夹杂在水中，也会沉淀在回收水储集盒10的底部，即使还有微量的石英晶片颗粒或粉末随着过水通道17再次流至第二输送设备6上的石英晶片上时，也不会影响整体清洗效果，第二输送设备6上的水自重流至积水槽16中即可，可在积水槽16中设置用于抽取积水槽16中的水即可。