清洁装置及清洁方法与流程

本发明涉及半导体领域，特别涉及一种清洁装置及清洁方法。

背景技术：

在半导体生产工艺中，晶圆在进行清洗之前，其表面通常附着有大量的微粒污染，一旦这些被微粒污染的晶圆进入曝光机，污染微粒会在晶圆表面形成焦斑和/或卡盘斑，从而导致图案异常，良率降低。因此，晶圆在进入曝光机之前，通常需要通过晶背清洗装置(backsidesurfacetreatment，bst)进行晶背清洗，把晶圆表面的一些微粒去除，从而减少焦斑和/或卡盘斑的产生，提升产品良率。

然而，本发明的发明人发现，现有技术中的晶背清洗装置中，通常经由刷头等清洁件对晶圆进行清洁，一旦清洁件出现异常，会对晶圆造成损坏。此时，通常需要对清洁件进行更换，就会导致设备长时间无法工作，影响产能。

技术实现要素：

本发明实施方式的目的在于提供一种清洁装置及清洁方法，无需重新安装清洁件，保证产能不受影响。

为解决上述技术问题，本发明的实施方式提供了一种清洁装置，包括：用于沿预设方向支撑待清洁物体的承载机构，用于对所述待清洁物体进行清洁的清洁机构，所述清洁机构包括基座和可拆卸设置在所述基座上的第一清洁件；所述第一清洁件包括用于与所述基座可拆卸连接的壳体以及设置在所述壳体上的第一刷头部，所述壳体和所述第一刷头部围绕形成收容空间；所述基座上还设置有第二清洁件，所述第二清洁件容置在所述收容空间内。

本发明的实施方式还提供了一种清洁方法，应用于前述的清洁装置，包括：当所述第一清洁件被拆下时；控制所述承载机构和所述第二清洁件沿所述预设方向相互靠近第一预设距离，所述第一预设距离为所述第一清洁件与所述第二清洁件在所述预设方向上的高度差。

本发明实施方式相对于现有技术而言，设置承载机构对待清洁物体进行支撑，将第一清洁件可拆卸的设置在基座上，并在第一清洁件的第一刷头部和壳体之间形成收容空间，将第二清洁件容置在收容空间内，第一清洁件出现异常后，可以将第一清洁件拆下，露出容置于收容空间内的第二清洁件，使用第二清洁件对待清洁物体继续进行清洁，从而保证清洁装置的继续工作，不会因为清洁件出现异常而导致设备长时间无法工作，保证产能。

另外，还包括第一移动组件，所述承载机构设置在所述第一移动组件上、并可由所述第一移动组件带动沿所述预设方向移动。

另外，所述承载机构的可移动距离大于或等于第一预设距离，所述第一预设距离为所述第一清洁件与所述第二清洁件在所述预设方向上的高度差。设置承载机构的可移动距离大于或等于第一预设距离，可以保证第一清洁件被拆下后，第二清洁件可以移动足够的距离对待清洁物体进行清洁，保证清洁装置的清洁效果。

另外，还包括第二移动组件，所述清洁机构设置在所述第二移动组件上、并可由所述第二移动组件带动沿所述预设方向移动。

另外，所述第二清洁件的可移动距离大于或等于第一预设距离，所述第一预设距离为所述第一清洁件与所述第二清洁件在所述预设方向上的高度差。设置第二清洁件的可移动距离大于或等于第一预设距离，可以保证第一清洁件被拆下后，第二清洁件可以移动足够的距离对待清洁物体进行清洁，保证清洁装置的清洁效果。

另外，所述第二清洁件包括用于清洁所述待清洁物体的第二刷头部、以及与所述第二刷头部的底部连接的弹性部，所述第一刷头部压持所述刷头部的顶部；所述第一清洁件被拆卸时，所述弹性部托举所述第二刷头部沿所述预设方向移动第一预设距离，所述第一预设距离为所述第一清洁件与所述第二清洁件在所述预设方向上的高度差。在第二清洁件上设置弹性部，第一清洁件被拆下后，通过弹性部托举第二刷头部沿预设方向移动第一预设距离，从而保证第二清洁件可以有效的对待清洁物体进行清洁，保证清洁效果。

另外，还包括设置在所述弹性部上的限位件；所述限位件用于限制所述弹性部带动所述刷头部沿所述预设方向移动的距离。在弹性部上设置限位件，可以防止弹性部将第二刷头部压持在待清洁物体上而导致待清洁物体位置发生偏移，保证清洁质量。

另外，所述第一刷头部包括设置在壳体上的第一基板和设置在所述第一基板上的刷毛，所述第二清洁件包括第二基板和设置在所述第二基板上的刷毛；所述第二基板为可折叠基板。设置第二基板为可折叠基板，当第一清洁件被拆下，使用第二清洁件对待清洁物体进行清洁时，可以有效的提升第二清洁件的清洁面积，提升清洁效率。

另外，展开后的所述第二基板上的刷毛分布面积与所述第一基板上的刷毛分布面积相等。设置两者的刷毛分布面积相等，可以保证第一清洁件和第二清洁件的清洁面积相同，从而无需对清洁装置的其它部分进行改变，保证清洁装置的清洁效率。

附图说明

图1是本发明第一实施方式所提供的清洁装置的结构示意图；

图2是本发明第二实施方式所提供的清洁装置的结构示意图；

图3是本发明第三实施方式所提供的清洁装置的结构示意图；

图4是本发明第四实施方式所提供的清洁装置的结构示意图；

图5是本发明第五实施方式所提供的清洁装置的结构示意图。

具体实施方式

为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明的各实施方式进行详细的阐述。然而，本领域的普通技术人员可以理解，在本发明各实施方式中，为了使读者更好地理解本申请而提出了许多技术细节。但是，即使没有这些技术细节和基于以下各实施方式的种种变化和修改，也可以实现本申请所要求保护的技术方案。

本发明的第一实施方式涉及一种清洁装置，如图1所示，包括：承载机构10和清洁机构20。其中，承载机构10用于沿预设方向(图1中a方向)支撑待清洁物体100，清洁机构20用于对待清洁物体100进行清洁。清洁机构20包括基座21和可拆卸设置在基座21上的第一清洁件22。第一清洁件22包括用于与基座21可拆卸连接的壳体221、以及设置在壳体221上的第一刷头部222，壳体221和第一刷头部222围绕形成收容空间200。收容空间200内容置有第二清洁件23，第二清洁件23设置在基座21上。

与现有技术相比，本发明实施方式所提供的清洁装置在基座21上设置可拆卸的第一清洁件22，第一清洁件22内部围绕形成收容空间200，将第二清洁件23设置在收容空间200内，当第一清洁件22出现异常，无法继续对待清洁物体，如晶圆等进行清洁时，可以对第一清洁件22进行拆卸，露出第二清洁件23，使用第二清洁件23对待清洁物体进行清洁，从而无需重新安装清洁件，避免由于清洁件损坏而导致的设备长时间无法工作，保证产能不受影响。

本发明的第二实施方式涉及一种清洁装置。第二实施方式与第一实施方式大致相同，其同样包括承载机构10、清洁机构20、基座21、第一清洁件22以及第二清洁件23，主要区别之处在于：如图2所示，在本发明第二实施方式中，还包括第一移动组件30。

具体的，在本实施方式中，承载机构10设置在第一移动组件30上、并可由第一移动组件30带动沿预设方向移动。

需要说明的是，承载机构10由第一移动组件30带动沿预设方向移动仅为本实施方式中的一种具体的举例说明，并不构成限定，在本发明的其它实施方式中，承载机构10也可以是由其它结构带动而沿预设方向移动，具体可以根据实际需要进行灵活的设置。

进一步的，在本实施方式中，第一移动组件30为可旋转的螺旋杆，承载机构10套设在第一移动组件30上，承载机构10与第一移动组件30相邻的内壁与第一移动组件30配合设置。第一移动组件30旋转时，带动承载机构10沿预设方向移动。可以理解的是，前述仅为本实施方式中第一移动组件30和承载机构10的一种可实施的结构举例，并不构成限定，在本发明的其它实施方式中，也可以是其它结构，如第一移动组件30为升降杆，承载机构10固定在第一移动组件30上等，在此不进行一一列举，具体可以根据实际需要进行灵活的设置。

此外，在本实施方式中，承载机构10的可移动距离大于或等于第一预设距离，第一预设距离为第一清洁件22与第二清洁件23在所述预设方向上的高度差。

与现有技术相比，本发明第二实施方式在保留第一实施方式的全部技术效果的同时，通过设置第一移动组件带动承载机构10沿预设方向移动，可以将承载机构10靠近或远离清洁机构20，便于对第一清洁件22进行拆卸的同时，可以提升第二清洁件23的清洁效果。

本发明的第三实施方式涉及一种清洁装置。第三实施方式与第一实施方式大致相同，其同样包括承载机构10、清洁机构20、基座21、第一清洁件22以及第二清洁件23，主要区别之处在于：如图3所示，在本发明第三实施方式中，还包括第二移动组件40。

具体的，在本实施方式中，第二清洁件23设置在第二移动组件40上、并可由第二移动组件40带动沿预设方向移动。

需要说明的是，第二清洁件23由第二移动组件40带动沿预设方向移动仅为本实施方式中的一种具体的举例说明，并不构成限定，在本发明的其它实施方式中，第二清洁件23也可以是由其它结构带动而沿预设方向移动，具体可以根据实际需要进行灵活的设置。

进一步的，在本实施方式中，第二移动组件40为可旋转的螺旋杆，第二清洁件23套设在第二移动组件40上，第二清洁件23与第二移动组件40相邻的内壁与第二移动组件40配合设置。第二移动组件40旋转时，带动第二清洁件23沿预设方向移动。可以理解的是，前述仅为本实施方式中第二移动组件40和第二清洁件23的一种可实施的结构举例，并不构成限定，在本发明的其它实施方式中，也可以是其它结构，如第二移动组件40为升降杆，第二清洁件23固定在第二移动组件40上等，在此不进行一一列举，具体可以根据实际需要进行灵活的设置。

此外，在本实施方式中，第二清洁件23的可移动距离大于或等于第一预设距离，第一预设距离为第一清洁件22与第二清洁件23在所述预设方向上的高度差。

与现有技术相比，本发明第三实施方式在保留第一实施方式的全部技术效果的同时，通过设置第二移动组件40带动第二清洁件23沿预设方向移动，可以将第二清洁件23靠近或远离承载机构10，便于可以提升第二清洁件23的清洁效果。

本发明的第四实施方式涉及一种清洁装置。第四实施方式与第一实施方式大致相同，其同样包括承载机构10、清洁机构20、基座21、第一清洁件22以及第二清洁件23，主要区别之处在于：如图4所示，在本发明第四实施方式中，第二清洁件23包括用于清洁待清洁物体100的第二刷头部231、以及与第二刷头部231底部连接的弹性部232。第一清洁件22被拆卸时，弹性部232托举第二刷头部231沿预设方向移动第一预设距离，第一预设距离为第一清洁件22与第二清洁件23在所述预设方向上的高度差。

具体的，在本实施方式中，第一刷头部222压持刷头部231的顶部。当第一清洁件22被拆卸时，弹性部232被释放，从而托举第二刷头部231沿预设方向移动。

与现有技术相比，本发明第四实施方式在保留第一实施方式的全部技术效果的同时，通过设置弹性部232托举第二刷头部231沿预设方向移动第一预设距离，从而保证第二刷头部231对待清洁物体100的清洁效果。此外，本实施方式中的第一刷头部222被拆卸时，弹性部232托举第二刷头部231沿预设方向移动第一预设距离，承载机构10与清洁机构20之间不发生相对移动，当清洁机构20中存在多个第一刷头部222时，部分第一刷头部222的更换或拆卸并不会影响其它第一刷头部222的正常工作，从而可以有效的减少对第一刷头部222的更换频次，避免浪费的同时还可以有效的减少更换或拆卸的次数，提升更换或拆卸的效率。

优选的，在本实施方式中，还包括设置在弹性部232上的限位件50；限位件50用于限制弹性部232带动第二刷头部231沿预设方向移动的距离。通过在弹性部232上设置限位件50，可以防止弹性部232将第二刷头部231压持在待清洁物体100上而导致待清洁物体100位置发生偏移，保证清洁质量。

本发明的第五实施方式涉及一种清洁装置。第五实施方式与第一实施方式大致相同，其同样包括承载机构10、清洁机构20、基座21、第一清洁件22以及第二清洁件23，主要区别之处在于：在本发明第五实施方式中，第一刷头部222包括设置在壳体221上的第一基板2221和设置在第一基板2221上的刷毛60，第二刷头部231包括第二基板2311和设置在第二基板2311上的刷毛60。其中，第二基板2311为可折叠基板。

与现有技术相比，本发明第五实施方式所提供的清洁装置在保留第一实施方式的全部技术效果的同时，设置第二基板2311为可折叠基板，当第一清洁件22被拆下，使用第二清洁件23对待清洁物体100进行清洁时，可以有效的提升第二清洁件23的清洁面积，提升清洁效率。

优选的，在本实施方式中，展开后的第二基板2311上的刷毛分布面积与第一基板2221上的刷毛分布面积相等。设置展开后的第二基板2311上的刷毛分布面积与第一基板2221上的刷毛分布面积相等，可以保证第一清洁件23和第二清洁件22的清洁面积相同，从而无需对清洁装置的其它部分进行改变，例如清洁速度、清洁周期等，保证清洁装置的清洁效率。

本发明第六实施方式涉及一种清洁方法，应用于前述实施方式所提供的清洁装置，包括：当第一清洁件22被拆下时，控制承载机构10和第二清洁件23沿预设方向相互靠近第一预设距离，第一预设距离为第一清洁件22与第二清洁件23在预设方向上的高度差。

与现有技术相比，由于本实施方式所提供的清洁方法应用于前述实施方式所提供的清洁装置，因此同样具备前述实施方式所具有的技术效果，在此不再赘述。

本领域的普通技术人员可以理解，上述各实施方式是实现本发明的具体实施例，而在实际应用中，可以在形式上和细节上对其作各种改变，而不偏离本发明的精神和范围。