GlobalFoundries 20nm工艺流片成功，与三星携手28nm工艺

日前GlobalFoundries与三星联合宣布，两者携手同步制造采用28nmHKMG工艺高性能低漏电率的芯片。据称这种工艺专为移动设备处理器而设，例如智能手机、平板电脑和笔记本电脑等。

据消息显示，新工艺的产品比现有的45nm工艺产品在同样频率下可节省60%的功耗，同样功耗下则可以提升55%的性能。在两家的晶圆厂同步投产后，客户的芯片无需重新设计也可以在两者的晶圆厂内同步生产。

另外GlobalFoundries也在近日宣布，他们的20nm工艺试验芯片流片成功，已经在新工艺的发展道路上迈出了里程碑般的一步。不过关于新工艺的细节，GlobalFoundries并没有进行透露。

消息来源：[Xbit-Labs]