泛林集团推出革命性的新刻蚀技术，推动下一代3D存储器件的制造

通过技术和EquipmentIntelligence（设备智能）的创新，Vantex重新定义了高深宽比刻蚀，助力芯片制造商推进3DNAND和DRAM的技术路线图。

近日，泛林集团近日发布了专为其最智能化的刻蚀平台Sense.i所设计的最新介电质刻蚀技术Vantex。基于泛林集团在刻蚀领域的领导地位，这一开创性的设计将为目前和下一代NAND和DRAM存储设备提供更高的性能和更大的可延展性。