氮化镓晶体管的并联配置应用

引言

在功率变换器应用中,宽带隙(WBG)技术日益成为传统硅晶体管的替代产品。在某些细分市场的应用场景中,提升效率极限一或两个百分点依然关系重大,变换器功率密度的提高可以提供更多应用优势,在这种情况下采用基于氮化镓(GaN)晶体管的解决方案意义重大。与传统硅器件相类似,GaN晶体管单位裸片面积同样受实际生产工艺限制,单个器件的电流处理能力存在上限。为了增大输出功率,并联配置晶体管已成为设计工程师可以考虑的选项之一。应用晶体管并联技术在最大限度提升变换器输出功率的同时,也带来了电路设计层面的挑战。

并联晶体管的设计挑战

在应用晶体管并联技术时,首先需要考虑的是并联晶体管的通态电阻(RDS(on))。理想情况下,所选器件应均匀匹配,以确保静态电流在并联晶体管之间平均分配。其次,在动态开关过程中,如果晶体管栅极缺乏对称性,不仅会导致流经晶体管的电流分配不平衡,动态电流和电路寄生参数将会导致高频振荡电压。如果这些无法解决这些问题,将可能导致晶体管损坏。

尽管传统硅晶体管的并联配置技术已经十分成熟,但对于GaN器件并联技术研究还鲜有涉及。考虑到GaN器件驱动的特殊性以及其高速开关特性,我们将首先从GaN器件驱动电路设计开始介绍。

正确设计驱动电路

诸如英飞凌科技CoolGaN600VHEMT之类的GaN晶体管采用了栅极p型掺杂工艺,这会将器件的栅极阈值电压转换为很低的正向电压(1.0V~1.5V)。该结构中栅极形成的pn结正向电压(VF)约为3.0V,电阻为几欧姆,与栅极电容CG并联。因此,CoolGaN晶体管驱动电路与传统硅晶体管存在很大差异。栅极驱动过程中,一旦达到Miller平台,栅极电压就被钳位到接近VF的值,这意味着在硬开关应用中需要负电压来关断晶体管。同时,CoolGaN器件在稳态导通状态和开关瞬态所需驱动也有所不同。

针对CoolGaN晶体管特性设计的栅极驱动电路如图1所示。为确保栅极驱动正常,驱动电压VS的峰值需要超过VF的两倍(通常使用8V~10V),通过Ron提供了一条瞬态低阻抗高速AC路径来为Con和CGS充电,然后通过RSS形成一条并联的稳态DC路径。因此,栅极导通瞬态电流由Ron决定,而RSS决定稳态二极管电流。

在栅极关断时,CGS和Con中的电荷将快速达到平衡。此处必须确保Con大于CGS,以确保稳态的电荷差使栅极电压VG变为负值,从而在硬开关应用中关断晶体管。

氮化镓晶体管的并联配置应用

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