ASML光刻机延期到货,存储产品的制程升级受阻
- 电子产品
- 2021-07-05
- 297
- 更新:2021-07-05 23:34:11
据业内人士透露,由于NTX:1950i沉浸式光刻机(由荷兰ASML公司制造,可生产出12英寸32nm及以上制程产品)货源短缺,部分台湾内存制造商预计在12个月内将无法完成对38nm制程产品的过渡。
由于订购的NTX:1950i沉浸式光刻机延期到货,迫使多数内存制造商不得不使用ASML公司老一代的XT系列光刻机来生产芯片,该光刻机最大只可以生产38nm制程产品。存储产品的制程升级计划的整体进度受阻,32nm产品何时才能全线生产及普及难以预计。
消息人士还称,台湾半导体制造公司台积电、三星电子和东芝表示,由于它们已经预先订购了NTX:1950i沉浸式光刻机这款先进设备,所以这几家公司的产品制程升级计划并未受阻。
8月份时iSuppli市场调配公司曾传出,ASML公司新设备可能会出现产量不足现象,这很可能会影响到今年下半年内存市场改朝换代的进度。

消息来源:[digitimes]
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本文由 @huishou5 于2021-07-05发布在 泊祎回收,如有疑问,请联系我们。